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真空實驗爐是使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，適用于材料學相關專業的教學和科研實驗，由溫控系統、管式爐、真空系統、供氣系統、水冷系統五部分構成，可在真空或氣氛環境下制備納米材料等。真空實驗爐的結構：
真空實驗爐分立式和臥式兩種，根據爐溫高低和客戶的工藝要求，采用石墨或鉬或鎢作發熱體及隔熱屏。可編程PID調節。爐膛可整體移出，便于維護。配備充氣裝置、可向爐內充入保護性氣體或工作氣體，充氣流量可調。配備內循環冷卻裝置，可加速爐內物料冷卻，縮短工作周期，利于提高產品質量和工作效率。
根據客戶需要，可升級配置：
1、可配內置式快冷系統；
2、可配PLC可編程控制器及圖形操作終端（觸摸屏）控制系統；
3、真空實驗爐采用特殊設計及選材的發熱體和隔熱屏，燒結溫度可達2100℃以上；
4、微負壓燒結系統：在燒結階段可設定一個微負壓力值，實現爐內恒壓燒結。
5、真空實驗爐可以根據真空度的要求加配油擴散泵，極限真空度可達6.7×10-4Pa。
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